专利名称：光掩膜、其制作方法及使用了该掩膜的模样形成方
法
专利类型：发明专利发明人：三坂章夫申请号：CN00812599.6申请日：20001102公开号：CN1373861A公开日：20021009
摘要：在由掩膜组成的透射性基板100上形成有由遮光膜区域101和移相区102构成的孤立的遮光性模样。移相区102相对于透射性基板100的光透射区具有位相差。还有,移相区102的宽度被设定为与具有同一宽度的遮光膜的遮光性能相比移相区102的遮光性能在同等程度以上。
申请人：松下电器产业株式会社
地址：日本大阪府
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：汪惠民
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